光刻胶+特种气体+大基金介入，不腾飞更待何时？

南大光电（300346.SZ）此次定增，将公司推入了半导体的聚光灯下。

公司此次募集资金6亿元，主要用于建设光刻胶产业化项目和扩建年产2000吨三氟化氮生产装置项目，其中三氟化氮装置使用募集资金3亿元，光刻胶项目使用募集资金1.5亿元。而光刻胶项目的累计投资额是6.6亿元，其中光刻胶高纯配套材料产业化投资4.1亿元，ArF光刻胶产品产业化需要投资2.5亿元。资金差额的来源，应该是公司使用自有资金已经先行投资完成了。

光刻胶项目的实施主体是宁波南大光电材料股份有限公司，三氟化氮项目的实施主体是山东飞源气体有限公司。南大光电都持有这两家公司58%的股权。

01 光刻胶

深紫外光刻胶已经列入科技部“十三五”先进制造技术领域科技创新专项规划，属于重点攻克的重大科技创新项目。与深紫外光刻胶并列，还有300mm硅片、抛光材料、超高纯电子气体、溅射靶材等，它们是我国面向45-28-14nm集成电路工艺的重点攻关子项目。

光刻胶在半导体产业中处于关键支撑地位。光刻胶及配套试剂在晶圆制造材料中合计占比约12%，是第四大晶圆制造材料，技术开发难度大。国内高端市场长期为国外巨头所垄断。

全球行业前四大光刻胶厂商合成橡胶、信越化学、东京应化以及住友化学，均为日系厂商，全品类半导体光刻胶中日本厂商占据了70%的市场份额。分品类来看，日本厂商在 ArF、KrF、g 线/i 线胶市场中市占率分别为 93%、80%、61%，居于绝对垄断的地位。

国内光刻胶由于起步晚，技术水平相对落后，目前主要集中在PCB光刻胶、LCD光刻胶等中低端产品，高端光刻胶几乎处于空白状态，ArF浸没式光刻胶属于光刻胶皇冠上的明珠，它是先进制程晶圆制造的关键材料，当前受制于日资公司的限制和技术封锁。

南大光电自2017年起承担国家专项，攻克光刻机关键技术，率先制备出国内首款ArF光刻胶产品。

项目在宁波完全达产后，将建成年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，其中，年产5吨ArF干式光刻胶的生产线，年产20吨ArF浸没式光刻胶的生产线，以及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线。届时，产品性能满足90nm-14nm晶圆制造的要求，实现零的突破和完全国产化。

02 特种气体

与高端光刻胶一样，电子特种气体也存在外资垄断的问题。美国空气化工、普莱克斯、法液空、大阳日酸和德国林德，占据了全球电子特种气体94%的市场份额，也占据了国内85%的市场份额。

电子气体在电子产品制程工艺中电子特种气体是半导体制造的关键原料之一，它广泛应用于离子注入、刻蚀、气相沉积、 掺杂等工艺中，被称为半导体的“粮食”。

在光刻胶国家专项之前，南大光电就已经接受了另一项国家专项——高纯电子气体（砷 烷、磷烷）研发与产业化项目，并于2016年起形成高纯特种电子气体砷烷、 磷烷产业化能力，纯度达到 6N 级别，在半导体产业的关键材料领域已经实现 了国产化。

之后南大光电通过收购山东飞源气体58%的股份，进入含氟电子特种气体领域。含氟电子特种气体是电子气体的重要分支，在半导体和显示面板制造过程中，它是重要的清洗剂和刻蚀剂。

飞源气体是南大光电含氟气体的主导者

全球三氟化氮生产厂家主要集中在中、韩、美、日之间，中国企业产能占比约为 1/3。南大光电此次投资3亿元，扩建年产2000吨的三氟化氮生产线之后，将进一步提升中国厂商供应能力，扩大进口替代比重。

03 结论

光刻胶和电子特种气体，一直属于半导体领域的“卡脖子”项目。南大光电通过此次定增，提高特种气体的产品供给能力，突破高端光刻胶长期被日资垄断的格局，大幅推进进口替代的进程。

2021年7月27日，国家大基金二期投资18330万元，认购宁波南大光电新材料股份有限公司6733.19万股，占比18.33%。在光刻胶项目建设之前，国家大基金提前进入。

这也是南大光电股价能够两周翻倍的真正原因。